Китайские компании, занимающиеся разработкой и выпуском полупроводников, обратились с предложением создать отечественную альтернативу голландской компании ASML — ключевому поставщику продвинутых литографических машин. По мнению представителей отрасли, зависимость от иностранных поставщиков и ограниченный доступ к оборудованию подрывают безопасность и устойчивость цепочек поставок микросхем в стране. Эксперты отмечают, что современные экстремально-ультрафиолетовые (EUV) литографические системы, которые являются краеугольным камнем производства самых тонких кристаллов, поставляются единичными игроками и контролируются экспортными ограничениями. Это создаёт уязвимость: в условиях санкций или политических разногласий доступ к передовому оборудованию может быть резко ограничен. Поэтому китайские компании считают целесообразным инвестировать в разработку национальных аналогов и наращивание внутренних компетенций в области литографии.
Предложения включают масштабирование собственных НИОКР, создание совместных промышленных кластеров и государственную поддержку проектов по разработке сложного производственного оборудования. Экономический стимул также очевиден: наличие собственной техники позволит снижать затраты и ускорять внедрение новых технологических норм. Однако специалисты предупреждают о высокой сложности задачи: разработка машин уровня ASML требует огромных инвестиций, многолетних исследований и кооперации множества поставщиков компонентов, включая оптику, источники света и системы управления.
Кроме того, необходимы навыки точной механики и чистых производственных процессов на мировом уровне. В результате китайская инициатива выглядит как долгосрочная стратегия — не мгновенное решение текущих проблем, а путь к снижению технологической зависимости и созданию конкурентоспособной национальной экосистемы полупроводников. Для осуществления этой цели потребуется сочетание частных инвестиций, государственных программ и международного научного обмена, где это возможно.